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合成全景今天收集了V-Ray編寫的參數全面精華詳解，希望對喜歡或者希望了解V-Ray的朋友有所幫助。
Tips
V-Ray渲染器提供了一種特殊的材質——VrayMtl。在場景中使用該材質能夠獲得更加準確的物理照明(光能分布)，更快的渲染，反射和折射參數調節更方便。使用VrayMtl，你可以應用不同的紋理貼圖，控制其反射和折射，增加凹凸貼圖和置換貼圖，強制直接全局照明計算，選擇用于材質的BRDF。
一、幀緩沖器
1、啟用內置幀緩沖器。勾選將使用VR渲染器內置的內置幀緩沖器，VR渲染器不會渲染任何數據到max自身的幀緩存窗口，而且減少占用系統內存。不勾選就使用max自身的幀幀緩沖器。
2、顯示上一次VFB： 顯示上次渲染的VFB窗口，點擊按鈕就會顯示上次渲染的VFB窗口。
3、渲染到內存幀緩沖器。勾選的時候將創建VR的幀緩存，并使用它來存儲顏色數據以便在渲染時或者渲染后觀察。如果需要渲染高分辨率的圖像時,建議使用渲染到V-Ray圖像文件，以節省內存
4、從MAX獲得分辨率：勾選時VR將使用設置的3ds max的分辨率。
5、渲染到V-Ray圖像文件:渲染到VR圖像文件。類似于3ds max的渲染圖像輸出。不會在內存中保留任何數據。為了觀察系統是如何渲染的，你可以勾選后面的生產預覽選項。
6、保存單獨的渲染通道：勾選選項允許在緩存中指定的特殊通道作為一個單獨的文件保存在指定的目錄。
二、全局設置
1、幾何體：
置換： 決定是否使用VR置換貼圖。此選項不會影響3ds max自身的置換貼圖。
2、照明：
燈光：開啟VR場景中的直接燈光，不包含max場景的默認燈光。如果不勾選的話，系統自動使用場景默認燈光渲染場景。
默認燈光：指的是max的默認燈光。
隱藏燈光：勾選時隱藏的燈光也會被渲染。
陰影：燈光是否產生陰影。
僅顯示全局光。勾選時直接光照不參與在最終的圖像渲染。GI在計算全局光的時候直接光照也會參與，但是最后只顯示間接光照。
3、材質
反射/折射： 是否考慮計算VR貼圖或材質中的光線的反射/折射效果，勾選。
最大深度：用于用戶設置VR貼圖或材質中反射/折射的最大反彈次數。不勾選時，反射/折射的最大反彈次數使用材質/貼圖的局部參數來控制。當勾選的時候，所有的局部參數設置將會被它所取代。
貼圖： 是否使用紋理貼圖。
過濾貼圖：是否使用紋理貼圖過濾。勾選時，VR用自身抗鋸齒對紋理進行過濾。
最大透明級別：控制透明物體被光線追蹤的最大深度。值越高被光線跟蹤深度越深，效果越好，速度越慢，保持默認。
透明中止：控制對透明物體的追蹤何時中止。如果光線透明度的累計低于這個設定的極限值，將會停止追蹤。默認
覆蓋材質：勾選時，通過后面指定的一種材質可覆蓋場景中所有物體的材質來進行渲染。主要用于測試建模是否存在漏光等現象，及時糾正模型的錯誤。
4、間接照明：
不渲染最終圖像：勾選時VR只計算相應的全局光照貼圖(光子render 貼圖、燈光貼圖和發光貼圖)。這對于渲染動畫過程很有用。跑光子常用。
5、光線跟蹤：
二次光偏移：設置光線發生二次反彈的時候的偏移距離，主要用于檢查建模時有無重面，并且糾正其反射出現的錯誤，在默認的情況下將產生黑斑，一般設為0.001。
三、圖像采樣器(抗鋸齒)
固定：VR中最簡單的采樣器，對于每一個像素它使用一個固定數量的樣本。
細分：確定每一個像素使用的樣本數量，數值越大所花費時間越長。當取值為1 的時候，意味著在每一個像素的中心使用一個樣本，雖然時間較快但此時鋸齒較大;當取值為4的時候，將按照低差異的蒙特卡羅序列來產生樣本，雖然鋸齒有所改善，但時間花費較長。
對于具有大量模糊特效(比如運動模糊，景深模糊，反射模糊，折射模糊)或高細節的紋理貼圖場景，使用(固定圖像采樣器)是兼顧圖像品質與渲染時間的最好選擇。一般地，固定方式由于其速度較快而用于測試，細分值保持默認，在最終出圖時選用自適應QMC或者自適應細分。
1、自適應QMC：根據每個像素和它相鄰像素的明暗差異QMC 產生不同數量的樣本，使用時細節顯得平滑。適用于場景中有大量模糊和細節情況。它與VR的QMC采樣器是關聯的，它沒有自身的極限控制值，不過可以使用VR的QMC采樣器中的噪波閾值參數來控制品質。
2、最小細分：決定每個像素使用的樣本的最小數量，主要用在對角落等不平坦地方采樣，數值越大圖像品質越好，所花費的時間也會越長。一般情況下，你很少需要設置這個參數超過1，除非有一些細小的線條無法正確表現。
3、最大細分：決定每個像素使用的樣本的最大數量，主要用在對角落等平坦地方采樣，數值越大圖像品質越好，所花費的時間也會越長。
對于那些具有大量微小細節，如VRayFur 物體，或模糊效果(景深、運動模糊燈)的場景或大量幾何體面，這個采樣器是首選。它也比下面提到的自適應細分采樣器占用的內存要少。渲商業圖時可設得低些，因為平坦部分需要采樣不多。此采樣器沒有自身的極限控制值，它受(Vray：rQMC采樣器)中(噪波閾值)的制約，因此不可分開來看。當一個場景具有高細節的紋理貼圖或大量幾何學細節而只有少量模糊特效的時候，特別是這個場景需要渲染動畫時，使用這個采樣器是不錯的選擇。自適應QMC比固定所用時間長些，通常情況下最小細分1最大細分為4時或者最小細分1最大細分為3可以得到較為理想的效果。
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